柳野国際特許事務所

事務所について

知的財産権について、皆様からご質問の多い重要事項をQ&A形式で解説します。
Q&Aに関しましては、各カテゴリに整理させていただいておりますので目的の内容をお調べください。



平成26年法改正関連 平成23年法改正関連
平成20年法改正関連 平成18年法改正関連
平成16年法改正関連 特許・実用新案・意匠の選択等について
出願人・特許権者・発明者について 権利の譲渡・共有
ノウハウ・ライセンス関連 侵害警告・侵害・訴訟関連


期間関連 先行技術調査関連
発明の種類・クレームの種類等 特許要件・記載要件等
手続・制度関連(1)新規制の喪失及びその例外等 手続・制度関連(2)出願審査請求
手続・制度関連(3)優先権 手続・制度関連(4)出願公開
手続・制度関連(5)判定・裁定・法改正 特許等表示
出願人・特許権者・発明者関連 権利譲渡・共有
職務発明について


実用新案の基礎知識 技術評価書について
権利侵害 法改正
実用新案登録表示 費用について


意匠に関する基礎知識 意匠の取得の仕方
意匠法特有の制度について 意匠の表示の仕方
平成18年度の意匠法改正について


商標に関する基礎知識 出願から登録の流れについて
商標調査について 出願・登録について
更新関係 商標権の表示
侵害関係 海外商標関係


世界特許・国際特許 海外出願の注意点
PCT出願 米国出願
その他